Halbleiterreinigung

• 6 Stationen Tauchspülen mit Ultraschall
• Pumpenkreislauf mit Filtersystem, 5 µ Filterdichte
• Trocknen der Teile mit Turbo-Umluftsystem bei ca. 70°C
• mit Lift-Off-System zum abstreifen von Wasserresten
• Abkühlplatz

Besonderheit

• automatische Dosierung im Vorratstank 1
• Leitwert- und Ph-Wertüberwachung im Vorratstank 2
• Autarkes Wassermanagement durch integrierte OSMOSE
• Sparsamer Verbrauch durch Kaskadesystem

Videoausschnitt über die Funktion ( 18 Mb)